SENTECH ICP等离子沉积系统-SI 500D

SENTECH仪器（德国）有限公司是国际主流的半导体设备商，研发、制造和销售的薄膜测量仪器（反射仪、椭偏仪、光谱椭偏仪）和等离子工艺设备（等离子刻蚀机、等离子沉积系统、用户定制系统）。

SI 500D等离子沉积系统是ICP-PECVD设备，利用ICP高密度等离子源来沉积电介质薄膜。可在极低温度下(<100ºc)沉积高质量sio2, si3n4, 和sioxny薄膜。可以实现沉积薄膜厚度、折射率、应力的连续调节。

SI 500 D主要特点：

l 适用于8寸以及以下晶片

l 低温沉积高质量电介质膜：80°C~350°C

l 高速率沉积

l 低损伤

l 薄膜特性 (厚度、折射率、应力) 连续可调

l 平板三螺旋天线式PTSA等离子源 (PlanarTriple SpiralAntenna)

l SENTECH高级等离子设备操作软件

l 穿墙式安装方式

系统配置：

l 配置预真空锁（loadlock）， 带有取放机械手

l 基底温度从室温到350ºC可控

l PTSA ICP等离子源( MHz, 1200 W)

l 两路循环进气

l 6 MFC控制气路(SiH4, NH3, N2O, O2, Ar, CF4)

l 高速率真空泵系统，独立气流压强控制

l 绝缘电极，支持8" 基底或8" 托架(支持小晶圆,小片样品)

l 远程控制(RFC)

l Windos XP操作系统