光刻机一般根据操作的简便性分为三种，手动、半自动、全自动
A 手动：指的是对准的调节方式，是通过手调旋钮改变它的X轴，Y轴和thita角度来完成对准，对准精度可想而知不高了；
B 半自动：指的是对准可以通过电动轴根据CCD的进行调谐；
C 自动： 指的是 从基板的上载，曝光时长和循环都是通过程序控制，自动光刻机主要是满足工厂对于处理量的需要。
技术数据：
曝光源：汞光源/紫外线LED光源
的对齐功能：手动对准/原位对准验证 ；自动对齐；动态对齐/自动边缘对齐
对准偏移校正算法：通量；
全自动：批生产量：每小时180片
全自动：吞吐量对齐：每小时140片晶圆
晶圆直径（基板尺寸）：高达200毫米
对齐方式：上侧对齐：≤± µm；底侧对齐：≤±1,0 µm；红外校准：≤±2,0 µm /基板材料，具体取决于； 键对准：≤±2,0 µm；NIL对准：≤± µm
曝光设定：真空接触/硬接触/软接触/接近模式/弯曲模式
楔形补偿：全自动-SW控制；
曝光选项：间隔暴露/洪水暴露/扇区暴露
系统控制，操作系统：Windows；文件共享和备份解决方案/制配方和参数；多语言用户GUI和支持：CN，DE，FR，IT，JP，KR；实时远程访问，诊断和故障排除
工业自动化功能：盒式磁带/ SMIF / FOUP / SECS / GEM /薄，弯曲，翘曲，边缘晶圆处理
纳米压印光刻技术：SmartNIL®；
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