MLA100 无掩模光刻

以实惠的价格，重点是高性能设计，MLA100是许多研发应用的光刻方案。该光学系统被设计以50平方毫米/分钟直接进入光致抗蚀剂的速度来写结构下降到1微米，而无需光掩模。光掩模从光刻工艺中消除会增加灵活性和显著缩短成型或制造周期。该MLA100由曝光向导（GUI）控制，这通过完整的程序引导操作员来操作：加载基底，选择设计和开始曝光。随着60x1875px²的足迹MLA100的设计，以适应甚至到较小的研发实验室，并且只需要为操作提供电源和压缩空气。

MLA100的应用领域包括生命科学，微机电系统，微光学，半导体，传感器，执行器，微光机电系统，材料研究，纳米管，石墨烯，这任何一项应用都需要微光显示结构。

主要特征：

写速度 50mm^2/min

最小基板尺寸 6"x 6"

曝光区域 100×100mm^2

最小结构 1um

高功率LED光源

SLM基于光引擎

多种数据输入格式

基本灰度曝光模式

对准摄像系统

实时自动对焦

优化的曝光向导