2026年06月12日 10:50:14 来源：兴旺宝精选 >> 进入该公司展台 阅读量：1
在微纳加工的精密世界里，光刻胶的去除往往是决定成败的关键一环。无论是电子束曝光还是紫外曝光，残留的胶体都可能成为阻碍后续工艺的“隐形杀手”。在这一领域，上海沛沅仪器设备有限公司凭借深厚的科研沉淀，为行业提供了创新的解决思路。作为一家集等离子体技术设计、制造、产品开发、销售与服务于一体的技术型企业，上海沛沅仪器设备有限公司致力于提供专业的等离子表面处理系统，用扎实的科研实力助力中国制造业的崛起。
在微加工过程中，去胶工艺的重要性不言而喻。光刻胶是否被妥善去除，直接关系到样片是否受损以及后续工艺能否顺利推进。针对这一痛点，上海沛沅仪器设备有限公司推出了PLUTO-MD(8L)小型等离子去胶机。这款设备采用性能出色的组件和软件，能够对工艺参数进行精确控制。其内置的工艺监测和数据采集软件，为严格的质量控制提供了有力保障。目前，该技术已成功应用于功率晶体管、模拟器件、传感器、光学器件、光电、MEMS/MOEMS、生物器件以及LED等多个前沿领域。
PLUTO-MD(8L)小型等离子去胶机在设计上充分考虑了实验室的实际需求。它采用桌面型设计，普通实验台即可安置，不仅操作简便、上手快，而且使用成本极低，后期也易于维护。在适用范围上，它适合于4~6寸硅片及相同面积的去胶处理，用户还可以选配硅片专用托盘，以满足不同的实验需求。
在核心硬件配置上，该设备内置了双层气浴电极，能够有效提高清洗效率。同时，它配备了节流阀，可防止真空泵油雾回流，保障腔体内部的洁净度。如果用户有长时间使用的需求，还可以选配耐用电极，以降低腔体污染的风险。此外，设备配置了200W/13.56MHz的等离子发生器，能够兼顾物理作用和化学作用，确保去胶效果。
为了进一步保证样品处理的洁净度，PLUTO-MD(8L)还具备前后吹扫功能，并支持配置独立吹扫气路。在灵活性方面，该设备可选配电极间距可调功能，能够对各种几何形状、表面粗糙程度各异的金属、陶瓷、玻璃、硅片、塑料等物件表面进行超清洗和表面改性。
上海沛沅仪器设备有限公司的愿景是成为等离子体应用领域的优质供应企业。公司技术团队中67%以上具备硕士或硕士以上学位，由长期从事等离子体应用技术研究开发、多次参与国家重大科学工程研究的专家和产业化专家联合创建。未来，公司将继续用科研的沉淀和应用的创新，为中国的制造业崛起和化战略贡献一份力量。
