电子工业EDI+RO超纯水设备概述

　　半导体、集成电路芯片及封装、液晶显示、高精度线路板、光电器件、各类电子器件、微电子工业、年夜范围、超年夜范围集成电路需用年夜批的高纯水(含盐量在0.3mg/L以下,电导率小于0.2μs/cm的水)、超纯水(水中导电介质、胶体物质、无机物等简直全部往除的水)清洗半制品、制品。集成电路的集成度越高，对水质的请求也越高。今朝我国电子工业部把电子级水质技巧分为五个行业尺度，分辨为18MΩ.cm、15MΩ.cm、10MΩ.cm、2MΩ.cm、0.5MΩ.cm，以区分分歧水质。

　　电子工业EDI+RO超纯水设备制取

　　电子工业超纯水(水中导电介质、胶体物质、无机物等简直全部往除的水)处理(经由过程物化方法往除水中一些物质的过程)设备采用两级反渗透主机加EDI纯水系统(电阻率请求在1-18.2MΩ.cm(25℃)的超纯水)(电往离子(又称填充床电渗析EDI纯水系统(电阻率请求在1-18.2MΩ.cm(25℃)的超纯水)/CDI纯水设备(实用于制备电阻率请求很高的纯水系统))(Electrodeionization)的简称)

　　制备电子工业用超纯水的工艺流程

　　电子行业制备超水的工艺年夜致分红以下几种：

　　1、采用离子交换树脂的传统水处理方法，其基础工艺流程为：原水→沙炭过滤器→慎密过滤器→原水箱→阳床→阴床→混床(复床)→纯水箱→纯水泵→后置慎密过滤器→用水滴。

　　2、采用反渗透水处理设备与离子交换停止组合的方法，其基础工艺流程为：原水→沙炭过滤器→慎密过滤器→原水箱→反渗透→混床(复床)→纯水箱→纯水泵→后置慎密过滤器→用水滴。

　　3、采用反渗透水处理设备停止搭配的的方法，这是一种制取超纯水的新工艺，也是一种环保，经济，生长潜力宏年夜的超纯水制备工艺，其基础工艺流程为：原水→沙炭过滤器→慎密过滤器→原水箱→反渗透→电往离子→纯水箱→纯水泵→后置慎密过滤器→用水点。

　　今朝制备电子工业用超纯水(水中导电介质、胶体物质、无机物等简直全部往除的水)的工艺基础上是以上三种，其他的工艺流程年夜都是在以上三种基础工艺流程的基础长停止分歧组合搭配衍生而来。现将他们的优毛病分辨列于下面：

　　1、种采用离子交换树脂(用化学法将高分子共聚物制成的无机单体颗粒的离子交换剂)(普通也称离子交换树脂(用化学法将高分子共聚物制成的无机单体颗粒的离子交换剂))(用化学法将高分子共聚物制成的无机单体颗粒的离子交换剂)(又称离子交换剂)其长处在于初投资少，占用的处所少，但毛病就是需要常常停止离子再生，耗费年夜批酸碱，而且对情况有必定的损坏。

　　2、第二种采用反渗透作为预处理再配上离子交换(利用交换剂中的离子与稀溶液中的离子停止交换,以提纯或往除离子的过程)(经由过程离子交换的方法制取纯水、高纯水的装置)，其特点为初投次比采用离子交换树脂(用化学法将高分子共聚物制成的无机单体颗粒的离子交换剂)(普通也称离子交换树脂(用化学法将高分子共聚物制成的无机单体颗粒的离子交换剂))(用化学法将高分子共聚物制成的无机单体颗粒的离子交换剂)(又称离子交换剂)方法要高，但离子设备再生周期相对要长，耗费的酸碱比纯真采用离子树脂(普通也称离子交换树脂(用化学法将高分子共聚物制成的无机单体颗粒的离子交换剂))的方法要少良多。但对情况仍是有必定的损坏性。

　　3、第三种采用反渗透作预处理再配上电往离子(又称填充床电渗析EDI纯水系统(电阻率请求在1-18.2MΩ.cm(25℃)的超纯水)/CDI纯水设备(实用于制备电阻率请求很高的纯水系统))(EDI纯水系统(电阻率请求在1-18.2MΩ.cm(25℃)的超纯水)(电往离子(又称填充床电渗析EDI纯水系统(电阻率请求在1-18.2MΩ.cm(25℃)的超纯水)/CDI纯水设备(实用于制备电阻率请求很高的纯水系统))(Electrodeionization)的简称))装置，这是今朝制取超纯水(水中导电介质、胶体物质、无机物等简直全部往除的水)经济，环保用来制取超纯水(水中导电介质、胶体物质、无机物等简直全部往除的水)的工艺，不需要用酸碱停止再生便可持续制取超纯水(水中导电介质、胶体物质、无机物等简直全部往除的水)，对情况没什么损坏性。其毛病在于初投资相对以上两种方法过于昂贵。