等离子去胶机是半导体制造、微电子加工和科研领域中用于去除光刻胶、表面清洗和改性的关键设备。它利用等离子体的高活性，通过物理轰击和化学反应，高效、无损伤地清除样品表面的光刻胶和有机残留物。
一、工作原理
等离子去胶机的核心是利用等离子体进行处理。工作时，首先将腔体抽至真空，然后通入少量的工艺气体(如氧气、氩气等)。在射频(如13.56MHz)或微波(如2.45GHz)电源的能量激励下，气体分子会被电离，产生包含高活性电子、离子、自由基和紫外光子的等离子体。
这些活性基团与样品表面的光刻胶等有机物发生以下两种主要作用：
化学反应：以氧气为例，氧等离子体产生的氧自由基能与有机光刻胶反应，生成一氧化碳、二氧化碳和水蒸气等易挥发的气体，这些气体随后被真空泵抽走。
物理轰击：在电场作用下，离子被加速并轰击样品表面，如同"微观喷砂"，能有效将光刻胶"打碎"并剥离，尤其对于深孔或狭窄沟槽内的残留物清理效果好。
在实际应用中，通常是这两种机制共同作用的结果。
二、核心优势与典型应用
核心优势：
高效均匀：等离子体能够很好地处理复杂三维结构，包括深孔和狭窄沟槽。
精细温和：处理过程在较低温度下进行(例如有的设备处理时腔体温度不高于45℃)，能有效避免对热敏感材料或精密电路造成损伤。
清洁环保：干法处理，无需使用大量危险化学溶剂，减少了废液处理和环境污染问题。
控制精确：通过调节功率、气体种类、压力和时间等参数，可以实现对处理过程的精确控制，工艺重复性好。
典型应用：
半导体制造：去除晶圆上的光刻胶、清理刻蚀后残留物(打残胶)、晶圆表面活化清洗。
微电子封装：提高引线键合强度、防止芯片包封分层。
科研与新材料：材料表面改性(如增强亲水性或疏水性)、微流控芯片键合前的处理、塑料或玻璃表面处理以改善涂覆或粘接性能。
三、选型要点
选择等离子去胶机时，可以重点关注以下几个方面：
等离子源类型：
射频等离子：技术成熟，应用广泛。13.56MHz是行业标准频率，适用于大多数去胶和表面处理任务，性价比高。
微波等离子：如2.45GHz，能产生更高密度的等离子体，处理速率可能更快，尤其适用于一些难处理的聚合物或要求高效率的场合。
腔体材质与容积：
石英腔体：耐腐蚀性好，常用于处理具有腐蚀性工艺气体(如含氟气体)的场合。
不锈钢腔体：机械强度高，耐用。
容积根据你通常处理的样品尺寸和数量来选择，从2L的小型科研用机到43L甚至更大的工业用机都有。
工艺气体路数：设备通常标配双路气体(如O₂、Ar)，但如果你需要使用更多种类的气体或混合气体进行复杂工艺，则需要考虑支持多路气路的型号。
真空系统与控制：
好的真空系统(如采用干泵)和精确的压力控制是保证工艺稳定性和重复性的关键。
自动化控制已成为主流，配备触摸屏和可存储多组工艺配方的系统能极大提升操作便捷性和工艺一致性。
功率可调范围：更宽的功率可调范围意味着设备能适应更多样化的工艺需求。
