UV/EB清洗系统的工作原理：
光分解作用：可同时发射波长254nm和185nm的紫外光，这两种波长的光子能量能够直接打开和切断有机物分子中的共价键，使有机物分子活化，分解成离子、游离态原子、受激分子等。
光敏氧化作用：185nm波长紫外光的光能量能将空气中的氧气（O₂）分解成臭氧（O₃）；254nm波长的紫外光的光能量能将O₃分解成O₂和活性氧（O）。活性氧原子（O）有强烈的氧化作用，与活化了的有机物分子发生氧化反应，生成挥发性气体（如CO₂、CO、H₂O、NO等）逸出物体表面，从而清除粘附在物体表面上的有机污染物。
电子行业：可用于液晶显示器件、触摸屏、半导体硅芯片、集成电路、高精度印制电路板等的表面清洗，去除光刻胶、油污、指纹等污染物，提高后续工艺的良品率和可靠性。
光学行业：能对光学器件、石英晶体等进行清洗，去除表面的灰尘、油污和有机杂质，保证光学性能和成像质量。
材料处理领域：用于各种基材的预处理，如金属和玻璃，可改善表面润湿性，提高对粘合剂、油漆和涂料的附着力。
其他领域：在密封技术、带氧化膜的金属材料处理等方面也有应用，有助于提高材料的表面性能和使用寿命。
