VCD高真空箱  高真空箱 高精保压真空箱 高真空度的 真空箱 VCD高真空箱是一种用于制造半导体器件和集成电路的设备，其主要作用是在高真空环境下对半导体材料进行淀积和蚀刻处理。这种设备通常由真空室、电子束枪、样品台、气体控制系统等组成，可以精确控制气压、温度和化学反应条件，从而实现高精度、高质量的半导体器件制造。VCD高真空箱在电子工业、光电子技术、航空航天等领域都有广泛应用。
一、简介：VCD高真空箱主要应用于航空、航天、军事、电子、通讯、光电等科研及生产单位。集公司多年在真空设备成功经验，通过不断潜心研究，突破传统技术创造性解决了精密高真空设备的控制难点，能精准控制133Pa以下的真空度。
二、主要技术指标：
规格型号： HE-WD-300 HE-WD-400 HE-WD-500 HE-WD-600
内箱尺寸(mm)： 300×300×300 400×400×400 500×500×500 600×600×600
外形尺寸(mm)： 700×550×1250 700×660×1450 780×770×1550 900×860×1650
真空度范围： 100000Pa～1Pa
控制方式： 真空计显示或PLC触摸屏控制
结构： 一体式结构（内置真空泵）或分体式（外置真空泵）
内箱材质： SUS304#不锈钢
外箱材质： SECC钢板高级烤漆处理
使用电源： AC 单相 三线 220V 50HZ或AC 三相 五线 380V 50HZ
真空泵： 另购（可用户自备）
选加功能： 加热功能（RT+10℃～200℃）
 
高真空箱是一种实验室设备，主要用于模拟真空环境下的物理、化学、生物等实验。它能够创造出非常低的气压环境，使得研究人员可以进行一些在大气压下无法进行的实验，例如研究高温等离子体物理、材料表面的物理化学性质、半导体器件制作和测试等。高真空箱还可以用于制备高纯度材料，如半导体晶片、光学薄膜等。同时，在航天、航空等领域中，高真空箱也被广泛应用于模拟太空环境下的材料和设备高真空箱主要是通过抽空的方式将箱内的气体压力降低到非常低的水平，从而创造出高真空环境。以下是一般的高真空箱的工作方法：1. 开启高真空泵：高真空箱中需要连接高真空泵，开启泵后，泵会开始抽取箱内气体。
 
2. 预抽：当高真空泵工作后，需要进行预抽操作。预抽是为了将高真空箱中的大气压力降到一定的水平，以便后续的抽真空操作。
 
3. 抽真空：当高真空箱中的气压达到预定的抽真空条件后，泵将继续抽取气体。这个过程需要一定的时间，直到高真空箱中的气压降到所需的高真空水平。
 
4. 维持真空：当高真空箱中达到所需的高真空水平后，需要维持这个状态。可以通过使用气体放电检测器或者其他的真空检测设备来监测真空状态，从而调整泵的工作状态，保持高真空箱中的气体压力。
 
5. 进行实验：当高真空箱中的真空状态稳定后，可以进行实验。需要注意的是，在高真空环境下，一些物质可能会发生剧烈的化学反应或物理变化，因此需要特别小心谨慎。
 
6. 结束实验：当实验结束后，需要关闭高真空泵，并且逐步将气压恢复到大气压力，以避免高真空箱中的某些物质在大气压下爆炸或者发生其他意外的事情。的性能。