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真空镀膜机工作原理

真空镀膜主要指一类需要在较高真空度下进行的镀膜，具体包括很多种类，包括真空离子蒸发，磁控溅射，MBE分子束外延，PLD激光溅射沉积等很多种。主要思路是分成蒸发和溅射两种。 需要镀膜的被成为基片，镀的材料被成为靶材。 基片与靶材同在真空腔中。 蒸发镀膜一般是加热靶材使表面组分以原子团或离子形式被蒸发出来，并且沉降在基片表面，通过成膜过程（散点－岛状结构-迷走结构-层状生长）形成薄膜。 对于溅射类镀膜，可以简单理解为利用电子或高能激光轰击靶材，并使表面组分以原子团或离子形式被溅射出来，并且zui终沉积在基片表面，经历成膜过程，zui终形成薄膜。 典型的真空镀膜，包括了录像带，数据磁带DAT，以及很多电极的制作过程。

板式换热器(板式冷却器)是在两两相邻的传热板片所形成的狭窄而曲折的通道中流过，冷、热介质依次通过各自流道，中间隔一层传热板片，冷、热介质的传热过程实际上就是热介质的热能传递给冷介质的过程。在此过程中温度较高的介质通过传热板片将热能传递给温度较低的介质，热介质被冷却，冷介质被加热，通过热能转移来实现热工工艺的要求。