高能对应离子注入设备SOPHI-400
可对应至2400KeV的高能离子注入装置。
产品特性 / Product characteristics
•枚叶式
•可对应薄片Wafer
•平行Beam
产品应用 / Product application
• 功率器件相关薄片基板工艺、IGBT工艺
北京亚科晨旭科技有限公司
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高能对应离子注入设备SOPHI-400可对应至2400KeV的高能离子注入装置
高能对应离子注入设备SOPHI-400
可对应至2400KeV的高能离子注入装置。
产品特性 / Product characteristics
•枚叶式
•可对应薄片Wafer
•平行Beam
产品应用 / Product application
• 功率器件相关薄片基板工艺、IGBT工艺
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