centrotherm SiC和GaN退火及石墨烯生长 Activator150
centrotherm Activator 150 高温炉生产线专为硅-碳化合物(SiC)或镓-氮化合物(GaN) 设备的后植入烧结而设计开发。Activator 150可用于多种类型炉体, 如研发炉和批量生产炉, 且处理灵活性高。centrotherm的无金属加热装置的设计允许处理温度高达1850°C同时缩短了工艺循环时间。由于占据空间小、购置成本低,所以Activator 150可实现生产具有成本效益。
特点:
高活化率
表面粗糙程度小
温度达 1850°C
批量规模高达 50硅片(150mm)
加热率达 150 K/min
通过SiH4可实现硅“过压
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