这款紫外曝光机非常适合对紫外光敏感层曝光处理，是理想的紫外掩膜曝光机系统和掩膜对准机,mask aligner.紫外曝光机广泛用于光学，生物，微纳科技，光刻等领域需要1-2掩膜的应用。
紫外掩曝光机特点
1)的单色曝光，曝光带宽小于10nm;
2)冷紫外曝光，衬底环境温度实时控制，从而实现均匀曝光，消除热效应；
3）的功率密度
4） 紫外LED寿命更长，高达10000小时；
5）方便用户使用的触摸屏配置；
6） 不需要预热；
7）计算机控制紫外光源强度调节；
8）自动晶圆装载和卸载功能；
9）能耗；
更多激光直写光刻机请浏览：
紫外掩曝光机参数
分辨率：2微米
发射光谱：365+/-5nm, 385+/-5nm
4英寸晶圆照明： 25mW/cm^2 +/-10%
暴晒时晶圆温度加热:<1摄氏度
暴晒循环：1秒~18小时
记忆的曝光循环数： 10个
功率：180W
重量：8.2kg
尺寸: 260x260x260mm^2
电源： 110V/230v50Hz
所有评论仅代表网友意见，与本站立场无关。