美国Nano-master 兆声晶圆清洗机SWC-3000
特点：
。台式系统
。无损兆声掩模版或晶圆片清洗及旋转甩干
。支持12"直径的圆片或9"x9"方片
。微处理机自动控制
。IR红外灯
应用：
。带图案或不带图案的掩模版和晶圆片
。Ge, GaAs以及InP晶圆片清洗
。CMP处理后的晶圆片清洗
。晶圆框架上的切粒芯片清洗
。等离子刻蚀或光刻胶剥离后的清洗
。带保护膜的分划版清洗
。掩模版空白部位或接触部位清洗
。X射线及极紫外掩模版清洗
。光学镜头清洗
。ITO涂覆的显示面板清洗
。兆声辅助的剥离工艺
选配项：
。掩模版或晶圆片夹具
。PVA软毛刷清洗
。化学试剂清洗(CDU)
。氮气离子发生器
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