芬兰Picosun 高级型原子层沉积机 P-300 Advanced ALD

产品详情
芬兰Picosun 高级型原子层沉积机 P-300 Advanced ALD

芬兰Picosun 高级型原子层沉积机 P-300 Advanced ALD (图1)



衬底尺寸和类型：

。156 mm x 156 mm硅片50～100片/批次（双面/背对背）
。高达300 mm x 300 mm玻璃基板10～20片/批次（双面/背对背）
。大批量的3D产品（例如：钟表部件，珠宝，硬币，医疗植入部件，机械部件等）
。粉末与颗粒
。Roll-to-roll, 衬底宽 300 mm
。多孔，通孔，与高深宽比（HAR）样品


基片传送选件：

。气动升降（手动装载）
。半自动装载，用线性装载器实现
。全自动转载，用工业机器人实现


工艺温度： 50 - 500 °C


前驱体 ：

。液态、固态、气态、臭氧源
。前驱源余量传感器，并提供清洗和装源服务
。4根独立源管线，最多加载6个前驱体源

尺寸 ：(W x H x D) 149 cm x 191 cm x 111 cm



重量： 400 + 300 kg


选件： PICOFLOW™ 扩散增强器，N2发生器，尾气处理器，定制设计，与工厂软件连接服务。


验收标准 ：标准设备验收标准为 Al2O3 工艺